Pleťová maska Poremizing pro zmenšení pórů
Hydrogelová plátýnková maska bohatá na aktivní složky pro efektivní péči o póry. Působí jako jemný peeling i zklidňující ošetření, které cíleně minimalizuje viditelnost pórů, reguluje mazotvorbu a sjednocuje texturu pleti.
Hlavní benefity pleťové masky SKIN1004 Poremizing:
- Jemně čistí, zužuje a stahuje póry
- Odstraňuje přebytečný maz a nečistoty bez podráždění
- Zanechává pleť svěží, jemnou a bez mastného lesku
- Vyhlazuje a sjednocuje texturu pokožky
- Hydratuje a zklidňuje i citlivou pleť
- Dodává svěží a zářivý vzhled bez pocitu napětí
- Je ideální pro problematickou a smíšenou pleť
Klíčové složky a jejich účinky:
- Centella Asiatica (1 000 ppm) – zklidňuje, regeneruje, posiluje kožní bariéru a podporuje hojení
- Himalájská růžová sůl + sukcinová kyselina – detoxikují, odstraňují nečistoty z pórů a regulují mastnotu
- Exfoliační kyseliny AHA, PHA, BHA, LHA – jemně odlupují odumřelé buňky, zjemňují texturu a snižují viditelnost pórů
- Panthenol a allantoin – intenzivně hydratují, zklidňují podráždění a podporují regeneraci pokožky
- Fermentovaný extrakt z ibišku – podporuje obnovu pokožky a její pružnost
1. Po vyčištění pleti ji zklidněte tonikem. 2. Vyjměte masku z obalu a rovnoměrně ji přiložte na obličej. 3. Nechte působit 10–20 minut. 4. Sejměte masku a jemně vklepejte zbylou esenci, dokud se zcela nevstřebá.
Water, Dipropylene Glycol, Glycerin, Glycereth-26, Butylene Glycol, Panthenol, Hydroxyacetophenone, Polyglyceryl-10 Laurate, Carbomer, Caprylyl Glycol, Arginine, Centella Asiatica Extract(1,000 ppm), 1,2-Hexanediol, Adenosine, Pentylene Glycol, Xanthan Gum, Propanediol, Ethylhexylglycerin, Allantoin, Sodium Hyaluronate, Disodium EDTA, Succinic Acid, Lactobacillus/Hibiscus Sabdariffa Flower Ferment Filtrate, Citric Acid, Tromethamine, Betaine Salicylate, Glycolipids, Gluconolactone, Mentha Arvensis Leaf Oil, Dipotassium Glycyrrhizate, Hydrolyzed Collagen, Mineral Salts, Capryloyl Salicylic Acid.
Skin1004 Co. Ltd
4 Floor, 8, Teheran-ro 2-gil, Gangnam-gu, Seoul, Korejská republika